半導体、「後工程」で性能上げ 横浜国立大が研究拠点新設 – 日本経済新聞
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ソース: https://www.nikkei.com/article/DGKKZO79870970Y4A400C2L83000/
保存日: 2024/04/09 8:15
横浜国立大学は4月、半導体の性能を高める「後工程」の技術を研究開発する半導体・量子集積エレクトロニクス研究センターを新設した。半導体製造では微細化技術だけでなく、最近はチップを効率的に組み合わせる後工程の重要性が高まっている。50社以上の企業とも連携し、横浜市を半導体後工程の研究開発の先進地にする狙いだ。
研究センターは5つのラボ（研究室）で構成し、教授7人と准教授11人の18人体制でスタート。…
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