IBM、2ナノ半導体が示す「ムーアの法則」と米国回帰
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ソース: https://www.nikkei.com/article/DGXZQOUC139XM0T10C21A5000000/
保存日: 2021/05/19 8:20
米IBMは2ナノメートル（ナノは10億分の1、nm）プロセスの半導体製造技術でテストチップの作成に成功したと5月6日（米国時間）に発表した。「LSI（大規模集積回路）の構築に必要な数千のマクロについて、性能や信頼性、欠陥密度を確かめた」と、IBMリサーチ ディレクターのダリオ・ギル氏は語る。
同社によれば、現在主流の先端プロセスである7nmプロセスと比較して、チップの演算性能を45%高めるか、ある…
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